郭一連續(xù)好幾天都在A1廠出沒，尋找這可以提升芯片制造工藝的關鍵點。
材料熱膨脹相互的影響，光的衍射對于光刻的影響，線寬控制的幾個常規(guī)改進，光學近距效應修正，硅片平臺水平控制的關鍵因素，光刻膠涂膠工藝的改進……
……
隨著每天在工廠觀摩推演芯片制造的整個流程，郭一的小本本上記滿了各種可以對工藝有明顯改進的方法。
“安叔，召集工程師們，開會?！?p> 郭一雖...
康泓
還有一章，會稍晚一些，但會在12點之前。
郭一連續(xù)好幾天都在A1廠出沒，尋找這可以提升芯片制造工藝的關鍵點。
材料熱膨脹相互的影響，光的衍射對于光刻的影響，線寬控制的幾個常規(guī)改進，光學近距效應修正，硅片平臺水平控制的關鍵因素，光刻膠涂膠工藝的改進……
……
隨著每天在工廠觀摩推演芯片制造的整個流程，郭一的小本本上記滿了各種可以對工藝有明顯改進的方法。
“安叔，召集工程師們，開會?！?p> 郭一雖...
還有一章，會稍晚一些，但會在12點之前。